超维科技纪元第六十六章 耀眼的光芒(2/2)

在三天前，x射线凸透镜材料也获得了突破性进展，成功实现了x射线激光99.998的聚焦。

材料研究所所长马知力、神光仪器总裁高致远、激光实验室主任秦长歌，还有光机所的合作组组长刘瑞新，都围绕着一台光刻机在调试设备。

黄明哲走过来问道：“情况如何”

“社长，我们上午测试了两次，光刻出来的光栅可以达到10纳米和9纳米，现在正在调试8纳米级别。”高致远兴奋的回道。

而来支援神光仪器的刘瑞新此时也是晕乎乎的，他之前只知道神光仪器在研发x射线光刻机，却没有想到神光仪器已经做到这个地步。

国内的上沪中微电子的情况，光机所一清二楚，毕竟双方经常有合作，现在国内可以实现的光刻机，其精度最多只有40纳米。

而这个名不见经传的神光仪器，却一步登天，成功将光刻精度推进到10纳米之内，一举反超阿斯麦公司超紫外光光刻机的13.7纳米。

现在国内的蚀刻机并不弱于外国，也就是说神光仪器的光刻机，一下填补了华国芯片制造行业的两个致命弱点，光刻机和光刻胶。

显然神光仪器前途不可限量。